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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆产生厂座落华北省市,具体加工8屏幕尺寸光电器件晶圆,日访问量污废水 排污量约800吨。鉴于加工整个过程中动用广泛氢佛酸开始晶圆蚀刻,会导致污废水 中氟化物酸度敢达200-300mg/L,远超我国排污条件(10mg/L下)。 废水处理材质及来自 废水处理工艺通常来三大教学环节: 晶圆蚀刻工艺 :含高盐浓度氟化物(HF)、硝酸铵及几瓶巨资属 化学工业机诫打磨抛光(CMP)生活污水 :含纳米级级硅粒状、有机物络合剂 专用设备刷洗工业废水 :含异丙醇、挥发酚等有机化学物 解决工作流程工作流程 采用了"催化放置+混泥土放置+高度过滤清洁"三阶段治疗软件系统: 考试内容一级治理 :添加氯化钙和氢氧化反应钙,变成氟化钙悠长岁月中,氟化物删去率达85% 五级工作 :增多PAC(配位聚铝)和PAM(高密度聚乙烯酰胺),除掉橡胶胶体部分态严重有机废气 三级考试治疗 :在多媒质过滤程序器和可溶性炭吸收,水流氟化物有机废气浓度平衡在8mg/L有以下 核心环保设备例如:pH装置自动调接装置、斜管水解池、板框压滤(厌氧颗粒污泥缺水)。 结果成效 新项目自动运行四年评估数据资料提示: 氟化物平均的质量浓度:7.2mg/L(压低国家要求) COD取除率:92% 工业废水含水量率:≤65% 年收集氟化钙副物品约150吨,体现资源量化利用

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